（独）産業技術総合研究所太陽光発電工学研究センターは、（株）ノリタケカンパニーリミテド、（株）不二製作所及び和光純薬工業（株）と共同で、多結晶シリコン太陽電池の低価格化が期待できる新しい作製方法を開発した。結晶シリコン太陽電池の低コスト化技術として、単結晶シリコン基板においては、結晶シリコン基板のスライス技術を、現在の遊離砥粒方式から固定砥粒方式に移行することが積極的に進められている。しかし、多結晶シリコン基板においては、固定砥粒方式でスライスされた基板の表面が、凹凸の少ない鏡面に近い形状となり、その表面反射率をいかに低減するかが課題であった。今回開発した技術は、固定砥粒方式でスライスした多結晶シリコン基板に、サンドブラスト処理と酸エッチング液による処理を組み合わせることで表面テクスチャー構造（表面に凹凸がある構造）を形成し、表面反射率を低減するものであり、量産に適した方法である。この技術によって表面テクスチャー構造を形成した基板を用いることで、より低価格で多結晶シリコン太陽電池が作製できると期待されるという。