光技術を駆使した数多くの製品を生み出しているウシオ電機は、世界的に健康被害が懸念されているPFAS（有機フッ素化合物）の代表的な物質である「PFOSおよびPFOA」を、触媒や添加物を使用せずに光を用いて分解・無害化する技術を開発した。この新技術は、同社が得意とするエキシマランプによって波長172nmの紫外線を発生させ、OHラジカルと水和電子の力を加えることで、短時間で99％のPFOS等を分解するもの。PFASはその難分解性から除去・無害化が困難であり、活性炭吸着法では吸着した活性炭の輸送や焼却のための燃料消費、さらに高温焼却処理の際に発生するCO2やフッ素系GHGの大気放出が懸念されている。今回、同社は創業以来培ってきた真空紫外線技術を応用し、高温焼却処理の課題を払拭することに成功した。エキシマ光を用いた新技術は常温常圧で処理可能であるため、燃料や触媒、化学薬品添加物を必要とせず、環境負荷の大幅な軽減が期待できる。──現在はラボレベルでの実証にとどまっている技術の実用化に向けて、2025年度に実証実験を開始し、2027年の事業化を目指すという。